離子注入設備
類別: 應用示例
發(fā)布日期:2017年12月26日(星期二)
離子注入是一種通過將離子化物質注入固體來改變固體性質的一種加工方法。
在半導體制造的前端工藝中,通過使用離子注入,可以向晶片中引入適當?shù)碾s質以改善半導體元件特性。
廣泛用于控制半導體材料的電特性的工藝中,一般由產(chǎn)生的離子束的束量和能量,可以分為中等電流離子注入設備、大電流離子注入設備及高能量離子注入設備。
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