PVD設(shè)備
類別: 應(yīng)用示例
發(fā)布日期:2017年12月26日（星期二）
物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）是一種通過加熱或等離子能量將薄膜原料蒸發(fā)并使其在基板上形成薄膜的方法。PVD基本方法：①利用熱能使薄膜所需要的材料蒸發(fā)，并沉積到的基板表面；②分子束外延并且將蒸發(fā)的粒子變成離子的離子鍍膜；③用輝光放電等離子法進(jìn)行陶瓷薄膜濺等方法。
Moretec的磁流體也應(yīng)用于這些PVD設(shè)備。
由于Moretec的磁流體壽命長(zhǎng)，因此最適合用于PVD設(shè)備的工作臺(tái)以及靶材等的潔凈旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。
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